比“缺芯”还严重？90%市场被美日垄断，中国正在逐步突破精密仪器领域
来源：军哥漫谈
中美科技竞争愈演愈烈，半导体成为焦点领域之一。
自美国对中国实施技术封锁以来，芯片短缺问题备受关注。
然而，很多人不知道的是，与“缺芯”相比，中国在精密仪器领域，面临的困境更加严峻。
全球精密仪器市场几乎被美国和日本垄断，中国不仅在高端产品上完全受制于人，甚至连山寨版都难以制造。
这种局面背后隐藏着哪些深层次原因？
我们又该如何突围？
先来看芯片领域。
中国芯片产业起步并不晚。
1956年，半导体技术被列入国家十二年远景规划；1965年，中国制造出第一块集成电路，仅比德州仪器晚了七年。
然而，由于市场需求不足，半导体行业在上世纪七十年代几乎停滞，直到2000年国家政策推动，行业才逐步转型。
中芯国际作为代表企业，经历了从代工厂到技术突破的艰难历程。
2020年，成功实现14纳米工艺量产。
尽管中国已成为全球最大的芯片消费市场，但自主率在2024年仍不到30%。
在高端芯片制造领域，光刻机等关键设备的技术封锁成为“卡脖子”难题。
荷兰阿斯麦尔公司几乎垄断了全球EUV光刻机市场，而美国禁令直接导致这些设备无法出口至中国，这使得中国芯片制造能力受限。
但与芯片相比，精密仪器的困境更为严峻。
精密仪器被称为“工业母机”，是高端制造业的核心支撑。
以数控机床为例，这一设备决定了航天飞机、核潜艇等尖端工业产品的制造水平。
2025年，中国数控机床市场规模预计达到592亿美元，但高端产品的进口依赖度仍高达45%。
中低端产品国产化率虽分别达到65%和82%，但高端市场几乎完全被日本山崎马扎克、德马吉和天田等公司垄断。
此外，瓦瑟纳尔协定对中国高端机床出口的严格限制，使得国内企业在技术突破上面临巨大压力。
另一个典型案例是电子显微镜。作为科研和工业生产的关键设备，电子显微镜市场长期被德国蔡司、赛默飞和日本电子等国际巨头垄断。
虽然中国近年来取得了一些突破，但整体性能与国际顶尖产品仍有差距。
光刻机的困境同样突出。
光刻机是芯片制造的核心设备，尤其是用于7纳米以下工艺的极紫外光刻机（EUV）。
阿斯麦尔的光刻机涉及多国技术合作，包括日本的元器件、德国的光学镜片和美国的光刻技术。
受美国禁令影响，中国不仅无法获得EUV光刻机，甚至连DUV光刻机的供应也受到限制。
这直接导致中国高端芯片设计难以落地。
造成这些困境的根本原因在于基础科技的薄弱和产业导向的短视。
精密仪器的研发需要长期积累和高额投入，而国内企业往往更关注短期市场回报，忽视了基础研究的长期价值。
面对这些挑战，中国正在积极寻求突破。
近年来，国家加大了对高端制造业的支持力度。
同时，国内企业也在不断努力，数控机床、电子显微镜等领域已取得一定进展。
要真正打破美日垄断，中国需要从根本上解决基础研究薄弱的问题，加大对科研的长期投入，优化产业结构。
同时，通过加强产学研合作、培养更多专业人才，为精密仪器领域的创新提供保障。
只有这样，中国才能从制造业大国迈向制造业强国，实现自主可控的产业转型目标。
目前，中国在精密仪器领域的突破仍在路上，但未来可期。
只要我们坚持科技自立自强，就有望打破技术封锁，迎来属于中国制造的高光时刻。
发布于：浙江
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