光刻机需求或高于ASML预期：预计2027年将交付10台High-NA EUV和56台EUV
（来源：超能网）
随着人工智能（AI）浪潮带动了芯片产业的发展，投资机构对ASML产品的长期需求仍保持乐观，因为这些芯片普遍采用最新的半导体制造技术。虽然不少芯片制造商都延后引入新一代High-NA EUV，但是从整体来看，市场对光刻设备的需求仍处于上升趋势。
据Techpowerup报道，近日ASML表示，根据目前的订单信息和需求，预计2027年将交付10台High-NA EUV和56台EUV光刻机。其中英特尔和三星最近都提高了光刻机的订单量，英特尔将High-NA EUV的订购数量从1台提高到2台，EUV的订购数量从3台提高到5台，另外三星也将EUV的订购数量从5台提高到7台。
值得注意的还有SK海力士，2027年ASML要交付的EUV光刻机里占了20台，同时也将High-NA EUV的订购数量从1台提高到2台。此外，传闻SK海力士计划在未来两年内安装好20台EUV光刻机，全部是为了HBM及先进存储解决方案设计。
虽然英特尔很可能是首个在量产上引入High-NA EUV光刻技术的芯片制造商，不过三星和SK海力士正在迎头赶上。特别是SK海力士，以目前的产能扩张速度需要更多的厂房，为安装光刻机留有足够的空间。
相关推荐
光刻机需求或高于ASML预期：预计2027年将交付10台High-NA EUV和56台EUV
ASML开始向英特尔交付首套High-NA EUV光刻机，售价超3亿美元！
EUV光刻机争夺战，风云突变
ASML：将按计划在年底推出首款High NA EUV光刻机
ASML 展示价值 3.8 亿美元的 High-NA EUV 光刻机，重达15万公斤
ASML或将Hyper-NA EUV光刻机定价翻倍，让台积电、三星和英特尔犹豫不决
成本难题可解？ASML：Hyper NA EUV光刻机有望2030年商用！
投资100亿美元！美国建High-NA EUV研发中心，意欲何为？
下一代EUV光刻机即将爆发
ASML：我们有五个EUV光刻机客户
网址: 光刻机需求或高于ASML预期：预计2027年将交付10台High-NA EUV和56台EUV http://m.xishuta.com/newsview142333.html
