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台积电用旧光刻机,也能生产2nm芯片,不花冤枉钱

随着芯片工艺的不断进步,光刻机地位也是越来越重要,因为光刻机的精度,一定程度上决定了光刻工艺的精度,就决定了芯片的精度。

于是从普通的干式DUV光刻机,到浸润式DUV光刻机,再到普通EUV光刻机,再发展成High-NA EUV光刻机……

一代比一代先进,一代比一代昂贵。

普通的DUV光刻机,只要1000多万一台,浸润式DUV光刻机4、5千万一台,EUV光刻机要上亿元一台,而NA=0.55的High-NA EUV,要3亿多美元一台……

像台积电已经拥有的第一代EUV光刻机,上百台了,这里的成本就是上百亿美元了。

但是,问题来了,当工艺再前进,这些光刻机又要更新换代,比如生产2nm及2nm以下芯片时,可能需要用到NA=0.55的High-NA EUV,如果又要买上百台,就是300多亿美元。

这对台积电这样的巨头而言,也是一笔无法承受的开支,自己辛辛苦苦赚钱,最后全被ASML赚去了,真的是忍无可忍啊。

所以,台积电一直在想办法,让旧光刻机能够生产更为先进的芯片。比如之前第一代7nm芯片,台积电就没有采用EUV光刻机,而是采用旧的DUV光刻机,这样来节省成本。

直到第二代7nm芯片,台积电才切换为EUV光刻机。

而近日传出,2nm工艺以及之后的1.6nm工艺下,台积电也没打算换成High-NA EUV,台积电要继续使用旧的EUV光刻机,也就是NA=0.33的那一批。

这一批在台积电手中非常多,如果能够利用这些旧的,那么台积电可以节省一大笔EUV光刻机的升级费用,至少是上百亿美元。

此举对业界的影响其实是非常大的,如果台积电带头不买新光刻机,对ASML,甚至对整个以光刻机为核心的芯片产业链,都会造成巨大影响。

因为一直以来,ASML的EUV光刻机不断升级,推动整个产业进步,最终台积电依赖EUV光刻机的升级,也持续推进工艺的前进,就真的上相当于掀桌子了。

而台积电的行业,也给我们带来了启示,那就是我们也可以深度挖掘光刻机的潜力,不要老是想着买最新的光刻机,在现有光刻机上,利用技术改进,一样可以制造出更先进的芯片来。

发布于:湖南

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