一个长达13年的官司,看似只是一场针对硬件的纷争,然而当这场纷争的主角是两家半导体巨头时,其意义远超我们所能想象。在这个科技战争日渐加剧的时代,中国的中微半导体在一场知识产权侵权诉讼中打败了美国的竞争对手泛林集团。
最近,上海高级人民法院经过13年的纷争后,做出了最终裁定,要求泛林集团销毁其非法获取的一份关于中微半导体等离子刻蚀机的“技术文件和两张照片”。法院还禁止来自泛林集团的两名被告人使用中微半导体的商业秘密,并要求泛林集团为侵权行为向中微半导体支付损害赔偿和法律费用。
在半导体和人工智能等战略科技领域的紧张关系升级的背景下,这一有利于中微半导体的裁决无疑具有重要意义。此前,泛林集团撤出其在中国的客户支持团队,比如中国顶级存储芯片制造商长江存储。泛林集团曾表示,美国的出口管制可能使其每年的销售额损失25亿美元。
中微半导体是一家半导体设备制造商,主要生产用于半导体制造的刻蚀和薄膜沉积设备。根据其2022年的年度报告,其最先进的刻蚀工具型号已经被世界领先的半导体工厂在5纳米生产线上使用。刻蚀和薄膜沉积设备的销售在2022年全球半导体设备市场中的份额达到了22%,高于光刻设备17%的份额。
去年,中微半导体的收入同比增长了超过50%,达到47.4亿元人民币,净利润增长15.66%,达到11.7亿元人民币。
在科技赛跑中,每一个胜利都值得庆祝。对于中微半导体来说,这不仅是一次法律诉讼的胜利,更是一次对其技术实力的肯定。在这个科技竞赛的时代,中微半导体以其坚实的技术力量赢得了这场关键的胜利。未来,我们有理由期待中微半导体将在这个领域中继续展现其力量。
发布于:上海
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