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国产光刻胶能顶上吗?

美国拉拢荷兰和日本,加大对我国半导体的限制,终于荷兰率先做出表态,加3款DUV光刻机,目前只有最老型号可以购买。

日本貌似一直没有什么反应,不过近期,有业界消息传出,日本某光刻胶大厂,已经执行美国“实体清单”的限制要求,对我国的某存储大厂断供KrF光刻胶。

日本在光刻胶领域,处于垄断地位。例如,东京电子、JSR、富士等几个主要的日本企业,占据了全球中高端光刻胶超80%的市场份额。

那么问题来了,如果日本彻底断供光刻胶,国产光刻胶能顶上吗?

2019年7月,日本限制对韩出口氟化聚酰亚胺、光刻胶、氟化氢三种关键芯片材料。此举导致韩国在光刻胶领域奋起直追,韩国的东进半导体一直发展EUV光刻胶,并最终将韩国本土生产的EUV光刻胶应用于三星产线。

这给了我们很多启示,也说明高端光刻胶的研发,并非“难事”。

而且,资本市场的表现也证明了一点,国外光刻胶限制供应,光刻胶的国产化替代将会进一步提速,国内光刻胶行业也将会迎来机会。所以在相关消息披露之后,A股光刻胶板块连续大涨。

光刻胶按照应用领域的不同,可以分为PCB光刻胶、显示用光刻胶和半导体光刻胶。其中,半导体光刻胶的研发门槛最高,也是目前遭到卡脖子的领域。

中游的PCB光刻胶和LCD光刻胶我国与国外技术相差不大,在中低端产品占据主导地位。PCB光刻胶用于印刷线路板的图案化工艺,显示光刻胶用于平板显示、显示器、LCD彩色滤波片制作等光刻工艺中。

按曝光波长不同来看,半导体光刻胶可分为g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)以及EUV光刻胶(13.5nm),其中Duv光刻机主要使用KrF和ArF两种,可以覆盖0.25μm-7nm工艺制程。

光刻胶领域,尤其是中高端市场,被美日韩企业基本垄断,国产光刻胶的市场份额较为有限,但已经取得了长足的进步。

例如:

晶瑞电材的KrF光刻胶通过部分重要客户测试,批量供应,ArF光刻胶研发工作正有序开展。

2021年6月,上海新阳自主研发的KrF光刻胶产品已通过客户认证,并成功取得第一笔订单,随后进入批量化生产和销售。同时,ArF光刻胶单体产品已量产。

徐州博康已经实现了KrF、ArF的量产供货,拥有完备的光刻胶自供应链,此前哈勃投资曾投资了3亿元。

南大光电在2021年就已经实现在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点上通过认证,成为国内通过客户验证的第一只国产ArF光刻胶,实现少量供货。

北京科华已实现KrF光刻胶大批量稳定供货。

在EUV光刻胶方面,上海新阳的EUV光刻胶已经处于研发阶段。北京科华的02专项已经通过验收验收。不过因为没有EUV光刻机,所以EUV光刻胶的研发过程会比较麻烦。

其实除了技术上的问题,光刻胶还有一些比较特殊的情况,并非哪个企业能生产出来什么光刻胶,就能卖掉那么简单。

光刻胶产品一旦选用,晶圆厂是不会轻易更换的,因为这涉及到繁琐的验证过程,需要不断的送样、改进,需要双方配合,甚至来回反复几十次,想要完成最终光刻胶的导入,需要6-24个月的时间,这就导致光刻胶企业与客户之间的粘性极强,一旦合作,很难更换,这也是国产光刻胶发展道路上的一个困难。

总结的来说,国产KrF已经可以批量化生产,ArF有企业已经实现突破,有少量企业实现量产,还有企业正在验证。

但是日本的限制已经开始,没准以后或加大力度,所以不论有多大的困难,国产光刻胶这种核心原材料必须实现国产化替代,尤其是在中高端方面。

目前,国外厂商占据国内高端光刻胶市场大部分份额,其中G/I线国产化率10%,高端KrF、ArF国产化率不足5%。一旦断供,国内晶圆厂或将面临无法开工的局面。所以在这次日本行动之后,国内各家晶圆大厂为了长远考虑,或将主动甚至被动的快速导入国产光刻胶,以实现一定的国产化替代,所以国内光刻胶企业正在迎来新的发展良机。

发布于:黑龙江

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