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日本华为高级首席专家滨田公守将出席2024国际第三代半导体论坛并做大会报告

2024年11月18-21日,第十届国际第三代半导体论坛(IFWS2024)&第二十一届中国国际半导体照明论坛(SSLCHINA2024)、先进半导体技术应用创新展(CASTAS)将在苏州国际博览中心举办。

日本华为股份有限公司高级首席专家滨田公守将出席论坛,并将带来《最新高性能SiC MOSFET技术趋势》的大会报告。

SiC是实现低碳社会电力电子系统新时代的一种有前景的材料。近年来,SBD和MOSFET等SiC器件开始大量供应,利用这些器件的应用范围正在扩大。但可以利用SiC优势并有望实现稳定增长的市场尚未完全建立,其中一个主要原因是成本高,而芯片性能影响着成本。近年来,8英寸晶圆的供应已经开始,报告将分享最新高性能SiC MOSFET技术趋势,敬请关注!

嘉宾简介

滨田公守

日本华为股份有限公司高级首席专家

滨田公守于1985年加入丰田汽车公司。1987年,他作为创始成员之一参与了TMC的内部半导体项目,主要负责功率MOSFET、BiCDMOS、IGBT和SiC MOSFET的器件开发。目前担任华为技术日本公司功率半导体技术领域的高级首席专家,是日本电气工程师学会(IEEJ)、日本汽车工程师学会(JSAE)和IEEE的成员。他获得了ISPSD2005和ISPSD2020的最佳论文奖,曾担任ISPSD2021名古屋分会的总主席。

附:开幕大会日程安排

(转自:第三代半导体产业)

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