High NA EUV光刻机出货背后
早前，有新闻称，英特尔将获得第一台High NA EUV光刻机。
与此同时，行业机构Trendforce 报道称，英特尔将获得可能于 2024 年发货的 10 台High NA ASML 工具中的多达 6 台。
文章还引用三星副董事长 Kyung Kye-hyun 的话说“三星已经获得了High NA 设备技术的优先权”
这似乎意味着英特尔获得了最高 NA 的设备，其次是三星，因为其最近ASML宣布于韩国投资 7.55 亿美元。
这将使台积电处于不同寻常的第三位，与目前在 EUV 领域的主导地位（占全球 EUV 工具的 70%）形成鲜明对比。
如果我们假设工具成本为 3.5 亿至 4 亿美元，并且 2024 年 10 个工具的High NA 销售额将在35亿 至 40亿 美元之间，即使并非所有收入都可能在日历年得到确认。
我们认为，ASML 的High NA 带来的潜在上涨空间并未体现在股价中，因为对于大多数人来说，十台工具听起来有点夸张，但如果能做到这一点，那就意味着强劲的上涨空间。
如果我们假设英特尔确实按照建议获得了前 6 个High NA 工具，我们可以想象英特尔波特兰将至少获得前两个工具，其他工具将在 2024 年前往亚利桑那州和/或俄亥俄州。
在其他四台工具中，三星可能至少有两到三台工具，而台积电则获得一到两台工具。
我们猜测台积电可能会更加努力地推动当前 EUV 的多重图案化，而不是立即跳到High NA。
许多业界人士认为，与现有的多图案 EUV 工具相比，高数值孔径 EUV 工具将难以在成本上证明其合理性。这可能是台积电的明智之举，也可能是错误……时间会证明一切。从英特尔的角度来看，他们别无选择，只能大力推进，因为他们过去在 EUV 上的缓慢是台积电在摩尔定律中超越他们的原因之一。
很明显，英特尔不希望重蹈最初的 EUV 工具的覆辙，因此很早就向 ASML 承诺获得一年多前宣布的第一批High NA 工具。
如果High NA 确实成功，这将是英特尔需要迎头赶上的“蛙跃”。
如果我们对 2025 年 15 台工具的猜测接近的话，我们预计英特尔、三星和台积电之间的份额会更加均匀，而欧洲 IMEC 的一款工具与 ASML 密切合作，很可能也会获得一款用于研发。
到 2026 年，三大晶圆代工/逻辑制造商之间可能会出现 20 台工具的情况，很可能会像最近宣布的那样为纽约增加一款用于研发的High NA 工具。
我们预计存储器制造商在最初几年不会采用高数值孔径，因为他们现在才刚刚开始采用常规 EUV，并且仍落后于 EUV 光刻技术的代工/逻辑需求 4 到 6 年。
我们不会感到惊讶的是，经过 3 年的High NA 出货量，英特尔拥有大部分High NA 工具，就像台积电拥有当前 EUV 技术的最大份额一样。
如果英特尔在 2024 年购买 6 个High NA 工具，则意味着仅High NA 工具资本支出就将达到 21亿至 24亿美元。这是一个相当大的赌注……但如果它有助于追赶台积电，那么这笔钱花得值。我们别无选择，因为如果不这样做，英特尔就会落后于台积电，如果幸运的话，最好的情况是与台积电处于同等地位。
尽管 EUV 和高数值孔径 EUV 工具之间存在显着差异，但基本概念是相同的。EUV 与 ARF 沉浸式技术相比并不是巨大的飞跃。
每个设备的成本为3.5亿至 4 亿美元，芯片制造商需要尽快让这些新工具投入使用。
他们还必须集中精力（请原谅这个双关语）在单一图案High NA 与多图案标准 EUV 上获得经济回报，这在一开始可能不是一个灌篮，就像 EUV 很难证明多图案 ARF 沉浸一样（关于你的成本优势仍然存在争议）。
我们认为这一消息如果属实，甚至接近属实，对于 ASML 和英特尔来说都是一个重大利好。然而，我们还不认为这对台积电来说是负面的，因为他们可能在 EUV 领域总体上保持强势地位。
我们认为，假设生产没有出现问题，ASML 及其股票可能会在 2024 年经历High NA EUV 浪潮。
我们进一步建议，除非High NA EUV 安全上路并已解决任何重大技术难题或其他问题，否则 ASML 即将退休的首席执行官和首席技术官最近的变动不太可能发生。
尽管英特尔可能需要一段时间才能看到其High NA 押注的成果，但我们认为，如果回报是重新获得技术领先地位，投资者将愿意忽视High NA 所需支出的负面影响。
发布于：安徽
相关推荐
High NA EUV光刻机出货背后
ASML：将按计划在年底推出首款High NA EUV光刻机
下一代EUV光刻机，万事俱备？
EUV光刻机的全球战争
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元！
新一轮EUV光刻机争夺战开打
下一代光刻机，竞争激烈
EUV光刻机里的低调王者
ASML：我们有五个EUV光刻机客户
下一代EUV光刻机即将爆发
网址: High NA EUV光刻机出货背后 http://m.xishuta.com/newsview102779.html
